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    另外,浸润式DUV,和干式DUV,其中最大的区别,就是在晶圆前面,加了一层介质水。 干式DUV采用的是空气作为光线传播的介质,浸润式DUV采用的是水来做光线传播的介质,而光线在水中产生折射,193nm波长的光源,折射后等效成13nm了,波长更短,于是分辨率更高了。
  • 14nm光刻机是怎么做出7nm和5nm芯片的? - 知乎
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  • Why are we going from DUV straight to EUV lithography?
    Maybe you want to ask a more specific question? What's the point of 50nm EUV if DUV can already achieve this as illustrated in my answer There is an energy density charge transfer explosive (deflagration to detonation) physics issue with the dielectric boundary of the pellicle interface
  • DUV 和 EUV 光刻机的区别在哪儿? - 知乎
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  • 国产duv光刻机出来了,中芯国际是否能在一年内达到10-7nm左右的等效工艺?或者? - 知乎
    少数客户是谁,影响范围可能有多大? ASML没有答案。 由于更先进的EUV光刻设备早在2019年被禁运,此次被限制出口的2050i,2100i基本上可以视作当前最先进的一批DUV光刻机型号,广泛应用于40nm以下的制程产能中,对应28nm、14nm、10nm、7nm四个主要制程节点。
  • 荷兰正式出手,限制 DUV 光刻机出口,这么做的原因是什么?
    ” DUV销量大幅增长,来自中国大陆收入占比大幅增长至24% 从具体的收入来源看,按设备技术划分,ASML二季度来自ArFi设备(浸没式DUV光刻设备)的营收占比为49%,相比今年一季度增长了高达19个百分点。 EUV设备的营收占比为37%,相比今年一季度降低了17个百分点。
  • 中芯国际表示 N+2 工艺会在 2022 年量产,你有何期待? - 知乎
    3、目前中芯在研发高端制程上的技术实力是在的,但是硬件需要等待ASML在2022年的芯片下降周期跟美国PK后,看看能不能继续卖DUV,以及能不能卖EUV才能知道。 大概率ASML的EUV也快要松动了,因为国产化浪潮已经起来,再不来占领市场,ASML可能会被国产化干掉。
  • 上海微电子能在2025年前攻克7nm光刻机吗? - 知乎
    一张嘴就是槽点。 根本不存在所谓的7nm光刻机,直接把光刻机说成是7nm、14nm、28nm都是有问题的。 光刻机应该是按照光源波长来划分: 用436nm光源的是g-line光刻机, 用365nm光源的是i-line光刻机,上海微电子的 SSX600扫描式光刻机就是这个类型, 用248nm光源的是KrF光刻机, 用193nm深紫外光光源的是DUV光刻





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